Beskriuwing
De Semicorex Wafer Carriers mei SiC Coating jouwe útsûnderlike termyske stabiliteit en conductivity, soargje foar unifoarme waarmte ferdieling tidens CVD prosessen, krúsjaal foar hege kwaliteit tinne film en coating skaaimerken.
Key Features:
1. Outstanding Thermal Stabiliteit en ConductivityUs SiC-coated waferdragers blinke út yn it behâld fan stabile en konsekwinte temperatueren, krúsjaal foar CVD-prosessen. Dit soarget foar unifoarme waarmteferdieling, wat liedt ta superieure tinne film- en coatingkwaliteit.
2. Precision ManufacturingElke waferdrager wurdt makke neffens krekte noarmen, en soarget foar unifoarme dikte en glêdens fan it oerflak. Dizze presyzje is essensjeel foar it realisearjen fan konsekwinte ôfsettingsraten en filmeigenskippen oer meardere wafels, en ferbetterje de totale produksjekwaliteit.
3. UnreinheitsbarriêreDe SiC-coating fungearret as in impermeable barriêre, foarkomt de diffusion fan ûnreinheden fan 'e susceptor yn' e wafel. Dit minimalisearret de risiko's fan fersmoarging, wat kritysk is foar it produsearjen fan hege-suvere semiconductor-apparaten.
4. Duorsumens en kosten effisjinsjeDe robúste konstruksje en SiC-coating ferbetterje de duorsumens fan 'e wafeldragers, wêrtroch't de frekwinsje fan ferfanging fan susceptoren ferminderje. Dit liedt ta legere ûnderhâldskosten en minimalisearre downtime, wêrtroch't de effisjinsje fan operaasjes foar semiconductorproduksje ferheget.
5. Oanpassing opsjesSemicorex Wafer Carriers mei SiC Coating kinne wurde oanpast om te foldwaan oan spesifike proses easken, ynklusyf fariaasjes yn grutte, foarm, en coating dikte. Dizze fleksibiliteit soarget foar de optimalisaasje fan 'e susceptor om te passen oan' e unike easken fan ferskate semiconductor-fabrykaasjeprosessen. Oanpassingsopsjes meitsje de ûntwikkeling fan susceptor-ûntwerpen mooglik op maat foar spesjalisearre tapassingen, lykas produksje mei hege folume as ûndersyk en ûntwikkeling, en soargje foar optimale prestaasjes foar spesifike gebrûksgefallen.
Applikaasjes:
Semicera Wafer Carriers mei SiC Coating binne by útstek geskikt foar:
• Epitaksiale groei fan semiconductor materialen
• Chemical Vapor Deposition (CVD) prosessen
• Produksje fan heechweardige semiconductor wafers
• Avansearre semiconductor manufacturing applikaasjes
Technyske spesifikaasjes:
