Yntroduksje ta CVD TaC Coating:
CVD TaC Coating is in technology dy't gemyske dampdeposysje brûkt om tantaalkarbid (TaC) coating te deponearje op it oerflak fan in substraat. Tantaalkarbid is in hege-optreden keramyske materiaal mei poerbêste meganyske en gemyske eigenskippen. It CVD-proses genereart in unifoarme TaC-film op it oerflak fan it substraat troch gasreaksje.
Haadfunksjes:
Excellent hurdens en wear ferset: Tantaalkarbid hat ekstreem hege hurdens, en CVD TaC Coating kin de slijtbestriding fan it substraat signifikant ferbetterje. Dit makket de coating ideaal foar tapassingen yn hege-wear omjouwings, lykas cutting ark en mallen.
Stabiliteit mei hege temperatuer: TaC-coatings beskermje krityske oven- en reaktorkomponinten by temperatueren oant 2200 ° C, dy't goede stabiliteit bewize. It behâldt gemyske en meganyske stabiliteit ûnder ekstreme temperatuerbetingsten, wêrtroch it geskikt is foar ferwurking op hege temperatuer en tapassingen yn omjouwings mei hege temperatueren.
Excellent gemyske stabiliteit: Tantalumkarbid hat sterke korrosjebestriding foar de measte soeren en alkalis, en CVD TaC Coating kin effektyf skea oan it substraat yn korrosive omjouwings foarkomme.
Heech smeltpunt: Tantaalkarbid hat in heech rimpelpunt (likernôch 3880 ° C), wêrtroch CVD TaC Coating kin wurde brûkt yn ekstreme hege temperatueromstannichheden sûnder smelten of degradearjen.
Excellent termyske conductivity: TaC coating hat hege termyske conductivity, dat helpt om effektyf dissipate waarmte yn hege-temperatuer prosessen en foarkomme lokale oververhitting.
Potinsjele applikaasjes:
• Gallium Nitride (GaN) en Silicon Carbide epitaksiale CVD-reaktorkomponinten ynklusyf waferdragers, satellytskûtels, douchekoppen, plafonds en susceptors
• Silisiumkarbid, galliumnitride en aluminiumnitride (AlN) kristalgroeikomponinten ynklusyf kroezen, siedhâlders, gidsringen en filters
• Yndustriële komponinten ynklusyf wjerstân ferwaarming eleminten, ynjeksje nozzles, maskering ringen en brazing jigs
Applikaasje funksjes:
• Temperatuer stabyl boppe 2000 ° C, wêrtroch operaasje by ekstreme temperatueren
• Resistint foar wetterstof (Hz), ammoniak (NH3), monosilane (SiH4) en silisium (Si), it bieden fan beskerming yn hurde gemyske omjouwings
• De termyske skokbestriding makket flugger operaasjesyklusen mooglik
• Graphite hat sterke adhesion, soargje foar in lange libbensdoer en gjin coating delamination.
• Ultra-hege suverens om ûnnedige ûnreinheden of kontaminanten te eliminearjen
• Conformal coating dekking oan strakke dimensional tolerances
Technyske spesifikaasjes:
Tarieding fan dichte tantaalkarbidcoatings troch CVD:
TAC-coating mei hege kristalliniteit en poerbêste uniformiteit:
CVD TAC COATING Technyske parameters_Semicera:
De boppesteande binne typyske wearden.
